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常見問題

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氧含量測量與露點(diǎn)分析在真空熱處理中的使用分析

     引言

      眾所周知,熱處理氣氛的精確測量都與熱處理部件的質(zhì)量和工藝有著密切的關(guān)系。有些熱處理氣氛條件的確定會進(jìn)行露點(diǎn)分析。這是因為,人們發(fā)現(xiàn)溫度指標(biāo)對碳勢,因而對終產(chǎn)品質(zhì)量有相當(dāng)大的影響。

      由于中性氣氛的主要目的地是避免滲碳、脫碳、氫脆、氧化和炭黑生成等現(xiàn)象的有害作用,爐內(nèi)氣氛的分析項目一定遠(yuǎn)遠(yuǎn)不止水分含量。為了測量,一氧化碳、二氧化碳、氫氣、水、氮?dú)夂图淄檫@樣的成分,需要使用可靠而又精確的儀器來分析。如今,武漢華敏的氧探頭和便攜式滲碳校驗儀都是備受歡迎的用以確定氣氛爐內(nèi)碳的分析儀器。


      疑問

      在氣氛爐的分析和控制手段多年來不斷進(jìn)步的今天 ,為什么露點(diǎn)測量仍然被熱處理行業(yè)的特種氣體工藝?yán)锼褂??原因是什么?/span>

      “準(zhǔn)確的”露點(diǎn)測量在相當(dāng)大程度上取決于環(huán)境溫度,然而不同的地域位置存在著環(huán)境溫度波動問題,即使在短短的24小時內(nèi)相對溫度也會再現(xiàn)劇烈變化。

      而另一種,氧化鋯氧分析是一種基于微處理器的通用型儀器,以武漢華敏的氧化鋯氧分析系統(tǒng)為例,使用于密閉環(huán)境下,用于測定PPM級別的氧含量,如果工藝氣體供應(yīng)管路中出現(xiàn)大于5ppm的氧含量時,就將給出報警提醒。重點(diǎn)是,氧化鋯氧分析產(chǎn)生的信號不受溫度的影響。


      結(jié)果

      在對少量水蒸汽或氧的存在就很容易導(dǎo)致氧化的金屬部件進(jìn)行真空熱處理時,研究表明,露點(diǎn)不應(yīng)當(dāng)被作為獨(dú)立的氣體純度指標(biāo)。將武漢華敏的氧化鋯氧分析系統(tǒng)作為補(bǔ)充的質(zhì)量工具,能夠讓熱處理企業(yè)更可靠地保證,從而達(dá)到客戶的技術(shù)要求。

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